반도체 R&D시설 투자 공제율 1%→20%

반도체 연구개발(R&D) 및 시설 투자의 세액공제 일몰 기한을 연장하고 공제율을 높이는 ‘K칩스법’(조세특례제한법 개정안)이 11일 국회 기획재정위원회 조세소위원회를 통과했다. 여야 합의로 통과된 만큼 이달 국회 본회의 에서 처리될 것으로 예상된다. 세계 주요 국가가 앞다퉈 반도체업계 지원을 강화하는 가운데 지원에 목말랐던 국내 반도체업계에도 청신호가 켜졌다는 평가가 나온다.

기재위 조세소위는 이날 회의를 열고 이 같은 내용의 조세특례제한법 개정안을 의결했다. 이 법안이 본회의를 통과하면 국가전략기술에 포함되는 반도체 기업의 시설 투자 세액공제율이 대·중견기업은 기존 15%에서 20%로, 중소기업은 25%에서 30%로 높아진다.

특히 이번 조세특례제한법 개정안에는 반도체 시설 투자세액 공제 대상에 장비 등 R&D를 위한 시설 투자를 포함하는 내용이 담겼다. 기존에는 생산라인 등 사업화를 위한 시설은 국가전략기술 투자세액공제 대상에 포함되지만, R&D시설 투자는 일반 투자세액공제가 적용돼 공제율이 대기업 1%, 중견기업 5%, 중소기업 10%에 불과했다. 법안이 본회의를 통과하면 반도체업계의 R&D시설 투자 공제율이 대·중견기업 20%, 중소기업 30% 등으로 높아진다.

이날 소위에서는 신성장·원천기술 및 국가전략기술의 R&D 세액공제 적용 기한을 2029년 말까지 5년 연장하고, 반도체 R&D 세액공제는 2031년 말까지 7년 연장하는 법안도 처리했다.

중소·중견기업 임시투자세액공제 적용 기간을 올해 말까지 2년 연장하는 개정안도 이날 조세소위 문턱을 넘었다. 그러나 대기업이 적용 대상에서 빠져 세액공제 혜택을 기대하고 대규모 투자를 단행한 기업은 피해를 보게 됐다. 기재위 소속 여당 관계자는 “대기업들이 기존 계획을 철회하거나 공장을 해외에 짓는 등 지역경제 활성화 측면에서 부작용이 있을 것”이라고 지적했다.

정소람/한재영/황정수 기자 ram@hankyung.com