특허청 기술디자인특별사법경찰은 국가첨단전략기술이 포함된 2차전지 자료를 허가 없이 중국으로 빼돌린 국내 2차전지 대기업 전직 팀장 A씨와 직원 B씨 등 3명을 기소했다고 28일 발표했다. 국가첨단전략산업 경쟁력 강화 및 보호에 관한 특별조치법, 부정경쟁방지 및 영업비밀보호에 관한 법률 등 위반 혐의가 적용됐다.

A씨의 이 같은 범행은 피해 기업에 재직하던 B씨와의 공모를 통해 추가로 진행되기도 했다. A씨가 빼돌린 자료에는 수조원에서 십수조원 단위 계약을 진행 중인 2차전지 주요 품목의 셀 설계 정보와 제품·기술 개발, 제조·원가 로드맵 같은 중장기 종합 전략 자료, 음극재 등 핵심 소재 개발 정보가 포함된 것으로 밝혀졌다. 사진 파일로는 3000여 장에 이르며 이 중 일부는 국가첨단전략기술 및 국가핵심기술에 해당한다. 특허청은 지난해 11월 국가정보원의 첩보를 받아 수사에 들어갔다. 지난해 12월 A씨 주거지를 압수수색해 증거를 확보했다.
주목할 부분은 우리나라 경제 안보에 직결되는 국가핵심기술이 새어나가는 국가가 대부분 중국이라는 점이다. A씨 역시 빼돌린 기술 자료를 중국 기업에 팔려고 했던 것으로 알려졌다. 2차전지 이전엔 반도체 기술이 주요 유출 대상이었다. 삼성전자와 SK하이닉스에서 근무한 직원들이 반도체 핵심 기술을 중국 회사에 빼돌리다가 법원에서 유죄를 선고받은 사례가 대표적이다. 이와 관련, 서울고법 형사8부는 지난 23일 산업기술보호법 위반 등 혐의로 기소된 전직 삼성전자 부장에게 징역 6년과 벌금 2억원을 선고했다. 협력업체 직원도 징역 2년6개월이 선고됐다.
검찰은 관련 범죄에 대해 구속과 구형 기준을 더 엄정하게 규정하고 양형 기준도 강화했다. 대법원 양형위원회는 지난해 3월 ‘산업기술 침해’라는 새로운 양형 기준을 추가해 국가 핵심기술 등의 국외 침해에 대해 최대 18년형을 선고할 수 있도록 했다.
국가 핵심기술 외 산업기술의 국외 침해는 최대 15년형, 국내 침해는 최대 9년형 선고가 가능해졌다. 기존에는 ‘영업비밀 침해’를 이유로 국내외 기술 유출에 대해 최대 9년형까지만 선고할 수 있었다. 김완기 특허청장은 “최근 5년간 기술 유출로 인한 피해액은 약 23조원에 달할 것으로 추정된다”며 “특허청은 관련 기관들과 적극 협력해 첨단기술을 지키겠다”고 강조했다.
강경주 기자 qurasoha@hankyung.com
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