한국원자력연구원은 중성자이용기술개발부 선광민 박사 연구팀이 중성자를 이용해 수 마이크로미터(㎛, 100만분의 1 미터) 깊이의물질 표면에 존재하는 원소를 미량까지 정밀하게 분석할 수 있는 '중성자 깊이분포측정 장치'(Neutron Depth Profiling)를 개발했다고 11일 밝혔다.
이 장치는 연구용 원자로인 하나로에서 만들어진 중성자를 이용해 물질 표면 근처의 원소를 100ppb(입자 1천만개 중 1개만 존재해도 확인 가능) 수준까지 검출해낼수 있다.
미국 국립표준기술연구소(NIST)가 에너지가 낮은 냉 중성자를 이용한 측정 장치를 개발한 데 이어 두 번째이다.
높은 중성자 속도를 가진 고출력 원자로를 구축해야 하는 등 기술적 어려움 때문에 전 세계적으로도 수 대에 불과한 실정이다.
이 장치를 이용하면 시료에 물리적, 화학적 손상을 주지 않고도 비파괴 검사가가능하다.
가속기의 중이온을 이용해 원소의 깊이를 측정하는 기존 기술은 물질의 적층을깎아내야 하기 때문에 시료가 손상될 우려가 있었다.
리튬이온전지, 실리콘 반도체 등 첨단 산업재료 분야는 물론 도자기 유약 등 코팅막의 원소를 제어함으로써 유물의 표면을 보호하는 역할을 해 고고학 분야에도 활용될 수 있다.
jyoung@yna.co.kr(끝)<저 작 권 자(c)연 합 뉴 스. 무 단 전 재-재 배 포 금 지.>
이 장치는 연구용 원자로인 하나로에서 만들어진 중성자를 이용해 물질 표면 근처의 원소를 100ppb(입자 1천만개 중 1개만 존재해도 확인 가능) 수준까지 검출해낼수 있다.
미국 국립표준기술연구소(NIST)가 에너지가 낮은 냉 중성자를 이용한 측정 장치를 개발한 데 이어 두 번째이다.
높은 중성자 속도를 가진 고출력 원자로를 구축해야 하는 등 기술적 어려움 때문에 전 세계적으로도 수 대에 불과한 실정이다.
이 장치를 이용하면 시료에 물리적, 화학적 손상을 주지 않고도 비파괴 검사가가능하다.
가속기의 중이온을 이용해 원소의 깊이를 측정하는 기존 기술은 물질의 적층을깎아내야 하기 때문에 시료가 손상될 우려가 있었다.
리튬이온전지, 실리콘 반도체 등 첨단 산업재료 분야는 물론 도자기 유약 등 코팅막의 원소를 제어함으로써 유물의 표면을 보호하는 역할을 해 고고학 분야에도 활용될 수 있다.
jyoung@yna.co.kr(끝)<저 작 권 자(c)연 합 뉴 스. 무 단 전 재-재 배 포 금 지.>