자외선 이용 반도체 기판에 다양한 나노패턴 제작 성공

자외선 이용 반도체 기판에 다양한 나노패턴 제작 성공
포스텍 "차세대 반도체 패턴화 기술 발전에 기여"

(포항=연합뉴스) 임상현 기자 = 포스텍(포항공과대)은 화학공학과 김진곤 교수와 통합과정 최청룡 씨 연구팀이 자외선을 이용해 반도체 기판 위에 다양한 형태의 나노 구조를 제작하는 데 성공했다고 5일 밝혔다.
자외선을 쬔 부분의 패턴을 변화시키는 간단한 방법으로 작은 기판 위에 매우 작고 다양한 패턴을 만드는 고성능 반도체 개발에 기여할 것으로 내다본다.
연구 결과는 네이처 자매지 '네이처 커뮤니케이션즈(Nature Communications)' 온라인 판에 실렸다.
반도체 기판 위에 패턴을 새기는 리소그라피 공정은 지금까지 하나의 기판 위에 두 가지 이상 다양한 패턴을 구현하는 것이 어려운 것으로 알려져 왔다.
연구팀은 연구를 통해 반도체 기판에 자외선을 쬐어주자 패턴이 변하는 것을 확인했다.
또 빛을 쬐는 부위를 자유자재로 조정해 특정 부분은 점 형태, 다른 부분은 선 형태를 지닌 나노패턴을 동시에 제작하는 데 성공했다.
김진곤 교수는 "갈수록 소형화, 고집적화하는 반도체 제작에 필요한 다양한 나노 구조를 하나의 기판에 동시에 구현할 수 있어 차세대 반도체 패턴화 기술 발전에 큰 도움이 될 것으로 기대한다"고 말했다.
과학기술정보통신부의 '창의적 연구진흥 사업' 지원으로 연구했다.



shlim@yna.co.kr
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