6일 자유시보에 따르면 대만 고등검찰서 지적재산권분서는 지난달 TSMC 퇴직자 천모씨가 TEL로 이직한 뒤 TSMC에 재직 중인 우모씨, 거모씨 등과 접촉해 2나노 공정 관련 기술 도면 약 1000장을 건네받은 정황을 포착했다. 이들 도면은 회사 내부 모니터를 휴대폰으로 촬영해 유출한 것으로 알려졌다. 검찰은 신주과학단지 내 TEL 사무실과 엔지니어 주거지를 압수수색하고 휴대폰 포렌식을 거친 뒤 클라우드 자료, 계좌 내역 등을 분석해 세 사람을 국가안전법 위반 혐의로 구속했다.
이번 사건은 2022년 5월 개정된 대만 국가안전법에서 ‘국가핵심관건기술 영업비밀의 역외사용죄’ 조항이 처음 적용된 사례다. 대만 정부는 14나노 이하 기술을 ‘국가 핵심 기술’로 지정하고, 이 법을 통해 해당 기술의 해외 이전 및 불법 취득을 엄격히 금지하고 있다. 이 조항이 적용되면 징역 최장 12년, 벌금 최대 1억대만달러(약 46억원)까지 부과될 수 있다. TSMC는 “영업 비밀과 회사 이익에 손해를 끼치는 행위를 절대 용인할 수 없다”고 강조했다.
업계에선 이번 기술 유출 사건이 일본 반도체업계 전반으로 번질 가능성도 제기된다. TEL은 “관련 보도를 인지하고 있으나 수사 여부에 관해선 언급하지 않겠다”고 밝혔다.
이혜인 기자 hey@hankyung.com
관련뉴스








