中업체, ASML에 도전장…노광장비 핵심부품 공개

미국의 첨단 반도체 제조장비 수출 통제에 맞서 기술 자립을 추진 중인 중국이 극자외선(EUV) 노광장비의 핵심 부품 시제품을 공개했다.

15일 중화권 매체에 따르면 중국 반도체 장비업체 랑다오쑤이옌은 상하이에서 열린 제26회 중국국제공업박람회에서 자체 개발한 EUV 광원 시스템 시제품을 처음 선보였다. 노광장비의 ‘심장’으로 불리는 광원 시스템 분야에서 지금까지 공개된 중국 국산 제품 중 가장 앞선 기술 수준으로 평가받는다.

업체 관계자는 “해당 시스템의 국산화율이 90%에 달하고 주요 핵심부품을 독자 연구개발(R&D)로 확보했다”며 “세계 선두 기업과 동일한 기술 노선을 채택해 실제 웨이퍼 노광 테스트가 가능한 수준”이라고 설명했다.

다만 양산까진 3~5년의 시간이 더 걸릴 것으로 전망된다. 공장에서 실제로 쓰려면 수백와트(W)급의 강력한 빛을 만들어내고 장시간 가동에도 버티는 안정성을 확보해야 해 기술적 난관이 남아 있다는 평가다.

EUV 노광장비는 7㎚(나노미터·10억분의 1m) 이하 첨단 반도체 제조의 핵심 장비다. 네덜란드 ASML이 시장을 독점하고 있는데 미국의 제재로 중국 수출이 전면 중단됐다.

김채연 기자 why29@hankyung.com