KAIST(한국과학기술원)는 전기및전자공학과 윤준보 교수 연구팀과 ㈜이노텍, 나노종합기술원이 공동으로 폭이 수십 나노미터(㎚,10억분의 1ｍ)에 달하는 매우 얇은 나노선을 대량 생산할 수 있는 기술을 개발했다고 22일 밝혔다.
긴 선 모양의 나노선은 다양한 열적, 전기적, 기계적 특성이 있어 반도체, 에너지, 생체소자, 광학소자 등 다양한 분야의 첨단 소재로 각광받고 있다.
하지만 수 밀리미터를 성장시키는데 3∼4일이 걸릴 만큼 합성 속도가 느려 대량생산이 어렵고, 원하는 크기대로 자유자재로 제작하는 것이 불가능했다.
게다가 제작된 나노선을 실제로 적용하려면 가지런히 정렬시켜야 하지만 복잡한후처리 과정이 필요해 상용화가 어려웠다.
연구팀은 기존 화학적 합성법이 아닌 반도체 공정을 이용해 별도의 후처리를 하지 않아도 나노선을 정렬된 상태로 만들 수 있는 기술을 개발했다.
우선 지름 20㎝의 실리콘 웨이퍼 기판에 광식각 공정을 이용, 주기가 100나노미터에 달하는 초미세 선 패턴을 제작했다.
이 패턴을 기반으로 반도체 제조과정에서 쓰이는 박막증착공정을 활용해 폭 50나노미터, 최대 길이 20㎝의 나노선을 대량 제조하는 데 성공했다.
이번 연구결과는 나노 과학 분야 권위 있는 학술지인 '나노 레터스(Nano Letters)' 지난달 30일자 온라인판에 실렸다.
jyoung@yna.co.kr(끝)<저 작 권 자(c)연 합 뉴 스. 무 단 전 재-재 배 포 금 지.>
긴 선 모양의 나노선은 다양한 열적, 전기적, 기계적 특성이 있어 반도체, 에너지, 생체소자, 광학소자 등 다양한 분야의 첨단 소재로 각광받고 있다.
하지만 수 밀리미터를 성장시키는데 3∼4일이 걸릴 만큼 합성 속도가 느려 대량생산이 어렵고, 원하는 크기대로 자유자재로 제작하는 것이 불가능했다.
게다가 제작된 나노선을 실제로 적용하려면 가지런히 정렬시켜야 하지만 복잡한후처리 과정이 필요해 상용화가 어려웠다.
연구팀은 기존 화학적 합성법이 아닌 반도체 공정을 이용해 별도의 후처리를 하지 않아도 나노선을 정렬된 상태로 만들 수 있는 기술을 개발했다.
우선 지름 20㎝의 실리콘 웨이퍼 기판에 광식각 공정을 이용, 주기가 100나노미터에 달하는 초미세 선 패턴을 제작했다.
이 패턴을 기반으로 반도체 제조과정에서 쓰이는 박막증착공정을 활용해 폭 50나노미터, 최대 길이 20㎝의 나노선을 대량 제조하는 데 성공했다.
이번 연구결과는 나노 과학 분야 권위 있는 학술지인 '나노 레터스(Nano Letters)' 지난달 30일자 온라인판에 실렸다.
jyoung@yna.co.kr(끝)<저 작 권 자(c)연 합 뉴 스. 무 단 전 재-재 배 포 금 지.>
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