삼성전자는 24일 지난해 시설투자에 23조 8천억원을 집행했다고 밝혔습니다.
반도체에는 낸드플래시 공장 건설과 D램과 시스템반도체 20나노급 공정전환에 주로 투자해 12조 6천억원을 집행했습니다.
디스플레이 패널의 경우 액정표시장치(LCD) 패널 공장 건설과 유기발광다이오드(OLED)패널 라인 증설 등에 5조 5천억원을 투자했습니다.
삼성전자는 올해 시설투자 계획을 아직 확정하지 않은 가운데 지난해와 유사할 것으로 내다봤습니다.
반도체에는 낸드플래시 공장 건설과 D램과 시스템반도체 20나노급 공정전환에 주로 투자해 12조 6천억원을 집행했습니다.
디스플레이 패널의 경우 액정표시장치(LCD) 패널 공장 건설과 유기발광다이오드(OLED)패널 라인 증설 등에 5조 5천억원을 투자했습니다.
삼성전자는 올해 시설투자 계획을 아직 확정하지 않은 가운데 지난해와 유사할 것으로 내다봤습니다.
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