미국 반도체 회사 인텔이 오하이오주에 건설을 계획한 200억 달러(약 27조원) 규모의 반도체 생산 시설의 가동이 늦어질 전망이다.
블룸버그 통신은 1일(현지시간) 2025년 가동을 목표로 했던 오하이오 산도체 생산 시설이 2026년 말에도 준비되지 못할 것이라고 보도했다.
반도체법 보조금 조달 지연이 원인으로 꼽힌다.
170개 기업이 반도체법의 보조금을 받기 위해 신청했지만, 두 개 기업에만 소규모 보조금 지급이 이뤄지는 등 자금 조달 속도가 느린다. 미국 정부는 3월 말까지 주요 반도체 보조금을 발표하는 것을 목표로 하고 있다.
인텔은 정확한 일정은 언급하지 않았으나 여전히 이 프로젝트에 전념하고 있어 상당한 진전을 이뤘다고 말했다.
한국경제TV 기획제작1부 전가은 외신캐스터
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