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국내 연구진, 자성 나노나선 구조로 상온서 전자스핀 조절 성공 2025-09-05 03:00:01
나노나선 구조로 상온서 전자스핀 조절 성공 고려대·서울대 연구팀 "키랄 금속 자성체 개발…스핀트로닉스 한계 돌파구" (서울=연합뉴스) 이주영 기자 = 국내 연구진이 외부 자기장이나 극저온 장치 없이도 전자의 스핀 방향을 조절할 수 있는 '키랄(chiral) 자성 나노나선' 구조를 만들고, 이를 이용해 스핀을...
"돈 안돼도 좋다, 세상을 바꿔라"…MIT, 나노기술에 5억弗 투자 2025-09-04 17:36:49
담아 ‘리사 수’라는 이름을 붙였다. MIT가 나노 기술에 이렇게 많은 돈을 쏟아부은 이유는 하나다. 나노가 미래 기술 발전에 가장 중요한 요소라고 판단했기 때문이다. MIT나노를 설립한 불로비치 소장은 “우리의 임무는 지금부터 2050년까지 필요한 기술을 개발하는 것”이라며 “이를 위해 나노 기술이 필수적이라는 ...
SK, 첨단 장비로 첫 양산…캠브리콘 황제주 등극 2025-09-04 14:21:11
나노와 1.4나노 공정 개발에 쓰고, 이후 양산을 검토하고 있습니다 TSMC도 장비를 보유하고 있습니다. 이번에 SK하이닉스의 양산용 도입이 가능했던 것은 SK하이닉스가 메모리 반도체에 집중하고 있기 때문인데요, EUV는 HBM 같은 초미세 패턴에서 활용도가 높습니다. 메모리 패턴은 반복 구조가 많고 설계가 단순해서,...
GC녹십자, 독자적 LNP 플랫폼 비임상 SCIE급 학술지 게재…낮은 간 독성 2025-09-04 11:20:49
GC녹십자는 독자적으로 구축한 지질나노입자(LNP) 플랫폼 기반의 희귀질환 비임상 연구 결과가 SCIE급 국제학술지(Molecular Therapy-Nucleic Acids)에 게재됐다고 4일 밝혔다. 현재 시판 중이거나 임상 단계에 있는 대부분의 mRNA-LNP 치료제·백신은 반복 투약 시 간 독성 및 과도한 면역 반응 문제가 발생해 만성 질환...
GC녹십자, 지질나노입자 희귀질환 비임상 결과 국제학술지 발표 2025-09-04 11:07:41
나노입자 희귀질환 비임상 결과 국제학술지 발표 (서울=연합뉴스) 조승한 기자 = GC녹십자는 독자 구축 지질나노입자(LNP) 플랫폼 기반 희귀질환 비임상 연구가 국제학술지 '분자 치료-핵산'에 실렸다고 4일 밝혔다. 현재 시판 중이거나 임상 단계인 메신저 리보핵산(mRNA)과 LNP 이용 치료제·백신은 반복 투약 시...
삼성·SK "차세대 D램 주도권 달렸다"…불붙은 첨단 EUV 노광장비 확보 경쟁 2025-09-03 17:39:31
모은 빛을 웨이퍼에 쏴서 그린다. EUV 장비는 빛의 파장이 13.5나노미터(㎚·1㎚=10억분의 1m)로, 193㎚ 파장을 활용하는 기존 심자외선(DUV) 장비보다 미세하게 회로를 그릴 수 있다. 그만큼 기술장벽도 높다. EUV 장비는 네덜란드 장비 업체 ASML만 생산할 수 있다. 삼성전자는 2020년 메모리반도체 공정에 EUV 장비를...
삼성·SK, 반도체 첨단 장비 도입…'홈그라운드' 기술력 키운다 2025-09-03 16:28:12
2나노 이하 시스템반도체와 10나노 이하 메모리 반도체 생산에 필수적으로 필요하다. 양산용으로 하이 NA 장비를 도입한 건 SK하이닉스가 처음이다. 앞서 삼성전자는 올 초 연구용으로 하이 NA 장비를 국내에 들여온 바 있다. 삼성·SK의 연이은 최첨단 EUV 장비 도입은 글로벌 불확실성 확대에 따른 대응으로 분석된다....
"납 없는 실리콘 초음파 패치 개발…웨어러블 혈압계 등 적용" 2025-09-03 12:00:01
연구팀은 반도체 공정을 이용해 실리콘을 나노 기둥 구조로 정밀하게 가공해 초박형 패치를 제작, 초음파 소자에 필수적인 정합층과 흡음층을 제거하면서도 안정적인 성능을 확보해 두께가 수백 마이크로미터(㎛)에 불과한 얇은 구조를 구현했다. 이렇게 제작된 패치는 상용 소자 대비 30% 이상 높은 출력 압력을 기록해...
SK하이닉스, 양산용 하이 NA EUV 투입…"1.7배 정밀 회로 구현 가능" 2025-09-03 10:35:30
기술 고도화가 필수다. 회로를 더 정밀하게 구현할수록 웨이퍼당 칩 생산량이 늘어나고 전력 효율과 성능도 함께 개선되기 때문이다. SK하이닉스는 2021년 10나노급 4세대(1a nm) D램에 EUV를 처음 도입한 이후 최첨단 D램 제조에 EUV 적용을 확대했다. 미래 반도체 시장에서 요구될 극한 미세화와 고집적화를 위해서는...
SK하이닉스 '업계 최초' 뭐길래…메모리 개발 속도 높인다 2025-09-03 08:59:40
반도체 제조업체가 생산성과 제품 성능을 높이려면 미세 공정 기술 고도화가 필수다. 회로를 더 정밀하게 구현할수록 웨이퍼당 칩 생산량이 늘어나고 전력 효율과 성능도 함께 개선할 수 있어서다. SK하이닉스는 2021년 10나노급 4세대(1anm) D램에 EUV를 처음 도입했다. 이후 최첨단 D램 제조에 EUV를 지속해서 확대해 왔...