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휘는 디스플레이 투명전극용 대면적 그래핀 합성기술 개발 2016-04-27 11:33:35
탄소 원자들이 육각형 벌집 모양으로 배열된 얇은 막 형태 나노소재로두께가 머리카락의 100만분의 1 수준인 0.3㎚(㎚=10억분의 1ｍ) 정도로 얇으면서도전도성, 투과도, 유연성 등이 우수해 미래 전자소재로 주목받고 있다. 현재 투명전극 소재로는 주석인듐산화물(ITO)가 많이 쓰이지만 이를 휘어지는디스플레이에...
경기회복 기대되는 中, 원자재주 히트 예감 - 업계 최초 RMS 수수료 0% (연 4.9%, 5년 사용) 2016-04-27 09:30:01
주식자금대출 상품을 이용하고 싶다 해도 신용등급 하락의 우려로 인해 망설이셨던 투자자들께 부자네 스탁론의 동부화재 상품을 적극 추천한다. 이 상품의 특성상 신용평점의 하락의 염려가 크지 않기에 신용등급 하락의 부담을 줄일 수 있는 상품인데다 별도의 취급 수수료 없이 대출 금액에 따른 이자금액만 납입 하는...
[천자칼럼] 망원경과 현미경 2016-04-22 17:40:39
비춘다. 망막과 혈관을 지나 세포와 dna, 분자와 원자의 핵까지….첨단 과학영상의 한 장면이다. 우주의 극대점과 인체의 극소점이 닮았다. 광학혁명의 대명사인 망원경과 현미경의 원리도 비슷하다. 둘 다 렌즈를 활용한 발명품이다. 안경 제조업자들의 우연한 발견에서 시작됐다. 그 덕분에 태양계 바깥까지 볼 수 ...
[주목! 이 책] 2020 차이나 리포트 등 2016-04-14 19:29:13
원자폭탄이 탄생해 일본에 투하되기까지의 과정을 그린 베스트셀러 《원자폭탄 만들기》의 후속작. 제2차 세계대전이 종결된 뒤 미국과 소련이 수소폭탄을 놓고 벌인 경쟁이 흥미진진하게 펼쳐지는 논픽션 소설이다. 역사적 자료를 토대로 수소폭탄을 둘러싼 강대국의 경쟁사를 서스펜스 스릴러처럼 풀어썼다. 이들 국가가...
"오바마, 일본 히로시마 방문 검토" 2016-04-13 17:47:21
정상회의 때 원자폭탄 투하지인 히로시마를 방문하는 것을 검토하고 있다.조시 어니스트 백악관 대변인은 12일(현지시간) “오바마 대통령이 히로시마를 갈 것이냐, 말 것이냐는 일본 방문 계획을 잡을 때마다 나오는 질문”이라며 “오바마 대통령과 수행팀은 분명히 우리의 (히로시마 방문) 옵션을 고려할...
대전시, 2016년 지식재산(IP) 스타기업 8개사 선정 2016-04-06 13:25:31
하이젠 △반도체용 원자층 증착장비제조기업 엔씨디 △고효율 터보기계제조기업 티앤이코리아 △컴퓨터 수치제어(cnc)밀링머신제조기업 스토닉 △토사유입방지용 유량조절기 제조기업 청림이엔지 등이다.ip 스타기업으로 선정된 기업은 3년간 지식재산 경쟁력강화 계획에 따라 국내외 권리화, 특허기술 시뮬레이션 제작,...
미래 전자소재 '흑린 반도체 박막' 대량생산 기술 개발 2016-04-06 12:00:46
덩어리에서 원자 1∼3개 층 두께의 고결정성 흑린 박막을 대량 생산할 수 있는 기술을 개발했다고 밝혔다. 흑린은 층구조의 반도체 물질로 반도체 소자 동작에 필수요소지만 그래핀에는없는 에너지 밴드갭(0.2∼3eV)이 있어 그래핀을 이을 미래 전자소자 재료로 주목받고 있다. 그러나 흑린을 반도체 소자로...
'마의 10나노 벽' 깬 반도체코리아, 6분기 연속 점유율 최고 2016-04-06 07:32:49
1m로 원자 3개의 지름 크기이다.공정이 미세화할수록 웨이퍼 선폭에 더 많은 집적회로를 그려넣을 수 있어 메모리 용량을 늘릴 수 있다. 데이터 처리 용량을 늘리면서 속도는 빨라지고 소비전력은 줄어드는 이유가 여기에 있다.sk하이닉스는 지난해 10월부터 20나노 초반대(2z급) d램을 양산하고 있다. sk하이닉스는 올...
삼성, 세계 최초 10나노급 D램 양산…메모리 반도체 기술 한계 돌파 2016-04-05 14:07:30
충분한 양의 전하를 저장하기 위해 '초균일 원자 유전막 형성 기술'이 필요하다. 10나노급 d램은 캐패시터의 유전막을 옹스트롬(10분의 1나노) 단위의 초박형 원자 물질로 균일하게 형성해 더욱 높은 속도에도 안정적으로 동작하는 우수한 셀 특성을 확보했다. 삼성전자는 올해 용량과 성능을 높인 10나노급 모바일...
삼성전자, 10나노급 `8기가비트 D램` 세계 최초 양산 2016-04-05 11:03:53
4배 많이 형성하는 기술입니다. `초균일 원자유전막 형성 기술`은 D램이 초미세 캐패시터에 충분한 양의 전하를 저장하기 위해 필요한 기술로 높은 속도에서도 제품이 안정적으로 동작할 수 있게 돕습니다. 삼성전자는 올해 10나노급 모바일 D램도 양산해 PC, 서버 시장에 이어 초고해상도 스마트폰 시장도 선점한다는...
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