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[이슈+] 삼성 vs TSMC, “7나노 반도체 주도권 잡아라” 2018-04-09 13:51:48
불화아르곤(arf) 기술을 극자외선노광장비(euv)로 대체하기 시작한 것. 삼성전자는 올해 말 euv 기반 7nm 공정 ap를 양산할 예정이다. ‘7nm’ 라는 미세화 측면에서는 tsmc보다 늦었지만, euv를 적용한 첫 공정이기에 생산효율과 성능이 뛰어날 것으로 추정된다. 업계는 euv를 활용하면 20nm 반도체를 만드는...
삼성전자, 화성에 차세대 미세공정 EUV 생산라인 건설 2018-02-23 11:00:00
극복에 필수적인 것으로 평가되는 EUV 노광장비가 처음으로 본격 도입된다. 삼성전자는 EUV 라인이 앞으로 반도체 미세공정의 기술 리더십을 유지하는 데 핵심이 될 것으로 판단하고 있다. 반도체 산업은 공정 미세화를 통해 집적도를 높이고 세밀한 회로를 구현하며 반도체의 성능과 전력 효율을 향상해왔다. 그러나 최근...
삼성전자, 퀄컴과 7나노 5G 통신칩 생산협력 2018-02-22 10:58:06
통신칩 생산협력 첨단 노광장비 'EUV' 적용, 성능 높이고 전력소모 줄인 칩 개발 (서울=연합뉴스) 정성호 기자 = 삼성전자[005930]는 통신반도체 업체 퀄컴과 7나노(㎚·10억분의 1m) 파운드리(반도체 수탁생산) 공정(7LPP, Low Power Plus) 기반의 5G(5세대 이동통신) 반도체 칩 생산에 협력하기로 했다고 22일...
삼성전자-퀄컴 "7나노 파운드리 협력 확대" 2018-02-22 10:55:55
칩 디자인을 통해 차세대 모바일 기기가 더 나은 사용자 경험을 제공할 수 있도록 해줄 것"이라고 밝혔습니다. 삼성전자 파운드리 사업부 전략마케팅팀 배영창 부사장은 "삼성의 차세대 노광장비인 EUV 기술을 사용해 5G 분야에서도 퀄컴과 전략적 협력을 지속하게 되었다"며 "공정 기술 선도에 대한 자신감을 의미하는...
삼성전자, 퀄컴과 7나노 파운드리 협력 확대 2018-02-22 09:36:02
5g(세대) 칩 생산을 협력한다.삼성전자는 7나노 공정부터 차세대 노광장비인 euv(extreme ultra violet)를 적용할 예정이다. 삼성전자와 퀄컴은 14나노/10나노에 이어 7나노까지 협력 관계를 확대하기로 했다.삼성전자는 지난해 5월 euv 노광 기술을 적용한 7나노 파운드리 공정을 선보이는 등 euv 기술을 적극 도입하고...
SK하이닉스 "작년 투자 10조3천억원…올해 더 증가할 것" 2018-01-25 11:04:47
것으로 예상했다. 첨단 미세공정으로의 이전을 위해 필요한 차세대 장비로 알려진 EUV(극자외선) 노광장비의 도입 시기에 대해선 "2019년 이후 '1Z 나노' 공정 이후부터 활용할 계획"이라고 밝혔다. SK하이닉스는 올해 회사의 D램과 낸드플래시 출하량 전망에 대해 "D램은 올해 20% 수준으로 출하가 성장하고, 낸드...
[대도약 2018 다시 뛰는 기업들] 삼성전자, "전부문 초격차 전략으로 시장 주도" 2018-01-01 16:04:49
첨단 극자외선 노광장비(euv) 인프라를 구축하는 등의 차별화된 전략으로 차세대 성장동력으로 키워갈 계획이다.스마트폰 사업을 담당하는 it·모바일(im) 부문은 올해 스마트폰 시장이 다시 성장 국면으로 돌아설 것으로 내다봤다. 대신 중국 업체들이 고사양 프리미엄 시장에 들어오면서 시장 경쟁은 더욱 치열해질...
삼성, 세계최초 2세대 10나노급 D램 양산…기술 격차 2년 벌려(종합) 2017-12-20 18:48:46
차세대 극자외선(EUV) 노광장비를 사용하지 않고도 1세대 10나노급 D램보다 생산성을 30% 가량 높일 수 있어 최근 급증하고 있는 글로벌 프리미엄 D램 수요에 대응할 수 있을 것으로 회사 측은 기대했다. 반도체의 원재료인 웨이퍼 하나에 기존 기술보다 30% 더 많은 칩을 생산할 수 있는 셈이다. 삼성전자는 지난 2012년...
'슈퍼 그뤠잇'… 삼성전자, 반도체 미세공정 한계 넘었다 2017-12-20 18:27:27
혁신에 극자외선 노광장비(euv)를 사용하지 않은 사실을 강조했다. 그동안 업계에서는 회로 간격이 10나노급으로 좁아지면 전하 간 간섭현상 등으로 대당 2500억원이 넘는 euv가 필요하다는 게 정설이었다. 진교영 삼성전자 메모리사업부장(사장)은 “발상을 전환한 혁신적 기술 개발로 반도체 미세화 기술의 한계를...
삼성, 세계최초 2세대 10나노급 D램 양산…'초고속·초절전' 2017-12-20 11:00:09
이룬 것으로 평가받고 있다. 특히 차세대 극자외선(EUV) 노광장비를 사용하지 않고도 1세대 10나노급 D램보다 생산성을 30% 가량 높일 수 있어 최근 급증하고 있는 글로벌 프리미엄 D램 수요에 대응할 수 있을 것으로 회사 측은 기대했다. 삼성전자는 지난 2012년 개발한 2y 나노(20나노급) 4기가 DDR3보다 용량과 속도,...