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삼성, 세계최초 2세대 10나노급 D램 양산…'초고속·초절전' 2017-12-20 11:00:09
이룬 것으로 평가받고 있다. 특히 차세대 극자외선(EUV) 노광장비를 사용하지 않고도 1세대 10나노급 D램보다 생산성을 30% 가량 높일 수 있어 최근 급증하고 있는 글로벌 프리미엄 D램 수요에 대응할 수 있을 것으로 회사 측은 기대했다. 삼성전자는 지난 2012년 개발한 2y 나노(20나노급) 4기가 DDR3보다 용량과 속도,...
삼성전자, 세계 최초 '2세대 10나노급 D램' 본격 양산 2017-12-20 11:00:03
한계를 극복했다. 삼성전자는 차세대 극자외선(euv) 노광장비를 사용하지 않고도 1세대 10나노급 d램보다 생산성을 약 30% 높여 글로벌 고객의 프리미엄 d램 수요 증가에 적기 대응할 수 있는 초격차 경쟁력을 구축했다.삼성전자는 2012년에 양산한 2y나노(20나노급) 4gb ddr3 보다 용량/속도/소비전력효율을 2배 향상한...
삼성전자 10나노급 2세대 D램 양산...세계 최초 2017-12-20 11:00:00
한계를 극복했습니다. 삼성전자는 차세대 극자외선(EUV) 노광장비를 사용하지 않고도 1세대 10나노급 D램보다 생산성을 약 30% 높여 글로벌 고객의 프리미엄 D램 수요 증가에 적기 대응할 수 있는 초격차 경쟁력을 구축했다고 덧붙였습니다. 삼성전자는 2012년에 양산한 2y나노(20나노급) 4Gb DDR3 보다 용량과 속도,...
삼성 화성 반도체공장 교통영향평가 통과…"이르면 내달 착공" 2017-11-23 19:16:48
이와 관련, 시 관계자는 "기업도 살고 시민 불편도 최소화하자는 데 공감대를 형성하면서 합의점을 찾았다"고 설명했다. 삼성전자는 지난 7월 평택 반도체 생산라인을 본격 가동하면서 인근 화성 사업장에 총 6조원을 투입, 극자외선 노광장비(EUV)를 도입해 신규 반도체 생산라인을 구축하겠다는 계획을 밝힌 바 있다....
'삼성 클러스터'로 떠오른 화·평·탕…44만개 일자리 더 생긴다 2017-07-04 18:00:35
공장이다. euv(극자외선 노광장비)를 도입해 7㎚(나노미터) 공정 상용화를 본격적으로 추진한다. 이 과정에서 d램 공정 미세화도 진전될 전망이다. 삼성디스플레이도 9조원을 투자해 한 달에 스마트폰 1200만 대분 oled를 생산하는 신규 공장을 2019년까지 짓는다. 아산시청의 건축허가를 얻어 최근 착공했다.노경목 기자...
'세계최대' 평택 삼성반도체 생산라인 본격 가동 2017-07-04 11:00:14
사업장에도 6조원을 투입해 극자외선 노광장비(EUV) 등의 신규 라인을 확보하기로 했다. 평택 라인의 기존 투자 금액까지 포함하면 오는 2021년까지 총 투자 규모가 약 37조원에 달할 것으로 추산됐다. 아울러 지난 2014년 완공돼 현재 100% 가동률을 보이는 중국 시안(西安) 반도체 라인에도 추가 라인을 건설해 낸드...
미래에셋대우 "삼성전자, 파운드리 경쟁력 높아져" 2017-05-31 08:40:16
"삼성전자는 신공정뿐 아니라 차세대 노광장비도 경쟁사보다 빠른 속도로 도입할 계획"이라고 말했다. 그는 "삼성전자는 기술적인 자신감을 바탕으로 몇 년 만에 파운드리 생산 능력도 늘릴 계획"이라며 "공정 경쟁력과 과감한 투자에 힘입어 파운드리 경쟁력이 앞으로 높아질 것"이라고 강조했다. 도 연구원은 삼성전자의...
삼성, 4나노 공정 2020년 개발…반도체 미세공정 로드맵 발표(종합) 2017-05-25 19:36:21
등 최첨단 파운드리 공정을 발표했다. 삼성전자는 현재의 노광장비로 구현할 수 있는 가장 경쟁력 있는 미세공정인 8나노 LPP(Low Power Plus) 공정개발을 올해 안에 완료할 계획이다. 극자외선 노광장비(EUV)를 적용한 7나노, 6나노, 4나노 공정개발 시점은 각각 2018년, 2019년, 2020년이 목표다. 삼성전자는 이와 함께...
삼성전자 파운드리 로드맵 "3년내 4나노 개발" 2017-05-25 10:41:50
올해까지 현재 노광장비로 구현할 수 있는 가장 경쟁력있는 공정인 8나노공정 개발을 완료하고, 내년에는 극자외선 장비인 EUV를 도입해 7나노 공정 개발을 완성하기로 했습니다. 7나노 공정은 네덜란드의 ASML과 협력을 통해 기존 미세공정의 한계를 극복하게 될 것이라고 삼성전자는 설명했습니다. 오는 2019년에는 초...
삼성, 미국서 '파운드리 포럼'…4나노 공정 로드맵 발표 2017-05-25 09:29:03
Insulator) 솔루션 등 최첨단 파운드리 공정을 발표했다. 삼성전자는 현재의 노광장비로 구현할 수 있는 가장 경쟁력 있는 미세공정인 8나노 LPP(Low Power Plus) 공정개발을 올해 안에 완료할 계획이다. 극자외선 노광장비(EUV)를 적용한 7나노, 6나노, 4나노 공정개발 시점은 각각 2018년, 2019년, 2020년이 목표다. 신규...