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"고맙다, 삼성전자"…반도체 소부장株 활짝 2023-03-16 17:43:54
노광 공정용 펠리클 생산 △디자인 하우스 등이 꼽혔다. OSAT 관련 대표주로는 SFA반도체와 하나마이크론 등이 있다. 에스앤에스텍과 에스에프에이는 펠리클 대표 업체다. 애플, 엔비디아 등 고객사가 맡긴 반도체 설계도를 삼성전자의 생산 시스템에 알맞게 변동시켜 수율을 높이는 디자인 하우스 업체로는 가온칩스와...
"삼성전자 고맙습니다"…반도체 소부장주 '불기둥' 2023-03-16 17:03:08
외주(OSAT) △극자외선(EUV) 노광 공정용 펠리클 생산 △디자인 하우스 등이다. OSAT 관련주로는 SFA반도체와 하나마이크론이 꼽힌다. 에스앤에스텍과 에스에프에이는 펠리클 대표 업체다. 애플, 엔비디아 등 고객사가 맡긴 반도체 설계도를 삼성전자의 생산 시스템에 맞게 변동시켜 수율을 높이는 디자인 하우스 업체에는...
차세대 반도체 공정이 뜬다…부품주 '들썩' 2023-03-14 17:34:05
회로도 원판이다. 펠리클은 반도체 회로도의 오염을 방지하는 보호막이다. TSMC, 삼성전자, 인텔, SK하이닉스 등 반도체업체들은 앞다퉈 EUV 공정을 도입하고 있다. EUV 공정은 기존보다 14배 얇은 회로를 그려 더 작은 고성능 반도체를 생산할 수 있는 기술이다. 에스앤에스텍과 에프에스티 모두 내년부터 EUV를 활용해...
반도체 공정 '세대교체' 온다…에프에스티 올 들어 24% 급등 2023-03-14 16:28:43
회로도 원판이다. 펠리클은 반도체 회로도의 오염을 방지하는 보호막이다. TSMC, 삼성전자, 인텔, SK하이닉스 등 반도체 업계는 앞다퉈 EUV 공정을 도입하고 있다. EUV 공정은 기존보다 14배 얇은 회로를 그려 더 작은 고성능 반도체를 생산할 수 있는 기술이다. 에스앤에스텍과 에프에스티 모두 내년부터 EUV를 활용해...
[소부장 스타트업 100]"벤처 성공의 DNA를 만난다"-이솔 2023-02-15 14:10:17
영향이 있는지를 판단하는 EUV 현미경 마지막으로 EUV 펠리클을 사용할 경우 EUV 펠리클 관련 장비가 필요하다. 현재 네델란드와 독일, 그리고 일본기업이 100% 독점을 하고 있는 실정이다. 그 중에서도 이솔은 핵심 장비로 손꼽히는 EUV 마스크 리뷰 장비로 EUV 현미경의 일종이라고 할 수 있다. EUV 마스크를 제작할...
TSMC 꺾을 '삼성 비밀병기' 中企가 만든다 2023-01-24 17:09:55
EUV 포토마스크는 전용 펠리클이 없으면 한두 번만 쓰고 버려야 한다. 이 때문에 파운드리 업체들은 오염된 비싼 포토마스크를 매번 바꿔가며 회로를 만들고 있다. 아무리 세척해도 불순물이 묻기 때문에 수율이 떨어지고 이는 곧 교체로 이어져 비용 부담이 커진다. 문제는 현장에서 원하는 만큼의 투과율이 나오는 게...
과기정통부, 용융염원자로(MSR) 전담 개발 연구실 지원한다 2023-01-24 15:07:16
기술 개발을 적극 지원할 계획"이라며 "과제 성과를 잘 관리해 소재 부품 장비 국산화에 기여하겠다"고 말했다. 지난해 나노 및 미래소재 기술 개발사업은 한국전자기술연구원이 반도체 EUV 펠리클 기술을 개발해 그래핀랩에 이전하고, 한국세라믹기술원이 고온 플라즈마 환경을 견디는 초미세 반도체 공정 소재를 개발해...
TSMC 잡을 '비밀무기'…삼성 '이 부품'에 사활 걸었다 [강경주의 IT카페] 2023-01-23 08:00:05
펠리클 투과율이 상용화를 논할 정도로 높아졌고 삼성전자도 자체 기술을 확보한 것으로 알려졌다. EUV펠리클은 포토마스크(반도체 회로패턴을 그린 유리기판)에 먼지가 붙지 않도록 씌우는 얇은 필름을 말한다. 공정 미세화로 수요가 늘고 있는 데다 불량률을 낮추고 웨이퍼 투입량을 줄여줘 삼성전자와 TSMC가 관련 기술...
그래핀랩, '삼성의 고민' 해결할 신소재 개발 2022-12-14 17:52:30
부스터 역할을 할 것”이라고 설명했다. 펠리클은 대기 중 분자나 오염으로부터 포토마스크 표면을 보호하는 나노 단위의 박막이다. 5나노 이하 초미세 공정에 필수로 사용되며 주기적인 교체가 필요한 소모품이다. EUV 장비 광원의 파장이 짧은 까닭에 펠리클을 얇게 구현하고 투과율을 높이는 기술이 필요하다. 그동안은...
"삼성·TSMC가 잠재 고객"…그래핀랩, 반도체 수율 높일 소재 개발 2022-12-12 15:30:55
다른 펠리클 재료인 탄소나노튜브(CNT)는 공정 중 수소와 만날 경우 화학 반응에 의한 손실이 일어나기도 한다. 실리콘과 CNT 소재 모두 수율 저하 가능성을 지니고 있다. 그래핀랩은 투과도와 내열성이 높은 그래핀이 펠리클 소재로 가장 적합하다고 봤다. 흑연을 원료로 한 그래핀은 두께가 0.2나노에 불과해 눈으로 볼...