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관료주의에 빠져 벼랑에 선 한국 조선업, '변경 DNA'를 회복하라 2016-06-06 17:30:28
때의 거대한 압력을 견뎌야 하고 독한 물질들에 의한 부식을 견뎌야 한다. 즉 모든 것이 거대하고 튼튼하고 내구적이어야 한다. 당연히, 해양플랜트는 선박보다 만들기가 훨씬 어렵다.근년에는 기술적 어려움에 정치경제적 어려움이 얹혔다. 저개발 산유국들이 자국 산업 육성 정책을 펴면서, 부품 국산화 비율이 높아졌다....
SK케미칼 혈우병 치료제, 30억달러 미국 시장 뚫었다 2016-05-27 18:50:42
있다”고 말했다.■ 혈우병x염색체에 있는 유전자의 돌연변이로 혈액 내 피를 굳게 하는 물질인 응고인자가 부족해 생기는 출혈성 질환. 관절이나 근육 등 체내 출혈과 가벼운 상처에도 피가 멈추지 않는 증상이 특징이다. 1만명 중 1명꼴로 발생한다.조미현 기자 mwise@hankyung.com50% 이상 상승할 新유망주 +...
오바마의 마지막 프로젝트, 미생물 2016-05-22 17:24:44
투자 미생물 유전자 해독…질병 원인·치료법 찾는다 [ 박근태 기자 ] 해마다 미국에선 2만9000명이 항생제 치료 과정에서 클로스트리듐 디피실 감염증에 걸려 목숨을 잃는다. 이 병은 건강한 성인 2~5%의 장 속에 살고 있는 클로스트리듐 디피실균이 항생제 복용 후 증가하면서 독소를 뿜어내 설사를 유발하는 치명적...
모든 바이러스 파괴하는 '전천후 물질' 나왔다 2016-05-15 17:31:13
바이러스처럼 바꿔주는 고분자 물질을 개발했다고 국제학술지 매크로몰리큘스가 15일 소개했다.바이러스는 같은 뿌리를 가지고 있어도 수시로 변이하면서 모습을 바꾸기 때문에 좀처럼 치료제와 예방백신을 만들기 어렵다. 연구진은 뎅기열과 치쿤군야바이러스, 인플루엔자, 에볼라 등의 바이러스를 치료하고 감염을 막는...
자면서도 콜록콜록 숨쉴 때마다 쌕쌕…'감기의 탈'을 쓴 천식입니다 2016-05-14 07:05:00
있다. 유전 영향 받는 알레르기 질환천식은 유전적 요인과 환경적 요인이 복합적으로 작용해 생기는 알레르기 질환이다. 부모가 천식을 앓았다면 자식도 천식을 앓을 가능성이 높다. 천식을 일으키는 원인물질과 증상을 심하게 하는 악화물질이 있다. 원인물질은 집먼지 진드기, 꽃가루, 동물 털과 비듬, 바퀴벌레, 식품, ...
산림청 국립산림과학원, 편백 유전자 식별 기술 특허출원 2016-05-10 10:37:52
국립산림과학원은 유전자 식별을 통해 편백나무와 유사 목재를 구별할 수 있는 기술을 개발했다고 10일 발표했다. 일반적으로 외부 생김새로 비교가 힘든 목재류는 현미경으로 조직 형태를 관찰해 그 종류를 구분하지만 목재 조직이 너무 유사해 현미경으로도 식별이 어려운 경우가 많다. 국립산림과학원은 편백나무와...
'치매 돼지'는 어떻게 만들어졌나 2016-04-28 18:35:00
유전자를 돼지에 이식해 치매 돼지를 계속 생산할 수 있도록 했습니다. 연구팀은 이 돼지를 오랜 시간 관찰했습니다. 태어난 지 2년된 돼지의 양전자방출단층촬영(pet ct), 자기공명영상(mri) 등 뇌 영상을 살펴봤습니다. 그 결과 정상 돼지보다 뇌 피질이 위축되는 등 알츠하이머 환자에게서 나타나는 증상을 보였습니다....
녹십자, `헌터라제` 美 임상2상 승인 2016-04-12 10:17:57
치료 후보물질인 `헌터라제(프로젝트 코드: GC1111)`의 임상2상 시험에 대한 승인받았다고 12일 밝혔습니다. 이번 미국 임상에서는 경쟁약인 엘라프라제의 투여 용량(체중kg당 0.5mg)보다 두 배(1.0mg)와 세 배(1.5mg)로 늘렸을 때의 `헌터라제` 효과를 탐색하고 안전성을 검증하게 됩니다.헌터증후군 치료제인 헌터라제는...
삼성, 세계 최초 10나노급 D램 양산…메모리 반도체 기술 한계 돌파 2016-04-05 14:07:30
유전막 형성 기술'이 필요하다. 10나노급 d램은 캐패시터의 유전막을 옹스트롬(10분의 1나노) 단위의 초박형 원자 물질로 균일하게 형성해 더욱 높은 속도에도 안정적으로 동작하는 우수한 셀 특성을 확보했다. 삼성전자는 올해 용량과 성능을 높인 10나노급 모바일 d램을 양산해 pc와 서버 시장에 이어 초고해상도...
삼성전자 세계 최초 '10나노급 D램 시대' 열었다 2016-04-05 08:42:53
유전막 형성 기술이 필요하다. 10나노급 D램은 캐패시터의 유전막을 옹스트롬(10분의 1나노) 단위의 초박형 원자 물질로 균일하게 형성해 더욱 높은 속도에도 안정적으로 동작하는 우수한 셀 특성을 확보했다. 삼성전자는 올해 10나노급 모바일 D램도 양산해 PC·서버 시장에 이어 초고해상도 스마트폰 시장도...
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