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'AI호황' TSMC 작년 사상최대 실적…올해 82조 설비투자(종합2보) 2026-01-15 21:29:07
10∼20%는 첨단패키징, 테스트, 포토마스크 생산 등에 쓰겠다는 것이다. TSMC가 미국 애리조나주에 반도체 공장 5곳을 증설하기로 약속하면서 미국과 대만의 상호 관세 협상이 진전하고 있다는 해석과 관련해선 논평을 거부했다. 황 CFO는 그러면서도 사업 결정은 고객 수요에 따라 이뤄지지만 2나노(N2) 이상급 첨단 신규...
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[포토] 바노바기, '2026 대한민국 퍼스트브랜드 대상' 베트남 마스크팩 부문 수상 2026-01-06 23:12:07
서울 장충동 신라호텔에서 열렸다. 베트남 마스크팩 부문을 수상한 바노바기(브랜드명 바노바기) 이그린 부대표(오른쪽)가 부 탄 투이 VTV Times 편집장과 포즈를 취하고 있다. 소비자가 직접 뽑는 '2026 대한민국 퍼스트브랜드 대상 시상식'은 2026년을 이끌어갈, 기대되는 브랜드를 선정하고 시상하는 국내 최대...
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[포토] 더멀매트릭스, '2026 대한민국 퍼스트브랜드 대상' 베트남 프리미엄마스크팩 부문 수상 2026-01-06 23:07:01
오전 서울 장충동 신라호텔에서 열렸다. 베트남 프리미엄마스크팩 부문을 수상한 더멀매트릭스(브랜드명 더멀매트릭스) 이덕휘 베트남 대표(오른쪽)가 부 탄 투이 VTV Times 편집장과 포즈를 취하고 있다. 소비자가 직접 뽑는 '2026 대한민국 퍼스트브랜드 대상 시상식'은 2026년을 이끌어갈, 기대되는 브랜드를...
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[주간 소부장] 2세대 High-Na 경쟁 본격화…SK실트론 인수하는 두산 2025-12-25 07:00:10
경쟁에 돌입하면서 승부처는 포토레지스트·마스크·펠리클·계측·패터닝 보완 등 High-NA 생태계로 확장될 가능성이 큽니다. 이는 한국 소부장 기업엔 ‘양날의 검’이 될 전망입니다. 장비·소재 스펙이 한 단계 더 올라가며 EUV용 소재·부품 국산화 기회가 커질 수 있습니다. 한편으론 첨단 공정에서 파운드리별 채택...
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TSMC, 3분기 '파운드리 2.0' 시장 39% 차지…매출 41% ↑ 2025-12-23 13:53:53
기업), OSAT(외주 반도체 조립·테스트)기업, 포토마스크 공급업체까지 범위를 확대한 시장을 의미한다. 카운터포인트리서치는 전공정 제조와 후공정 첨단 패키징 전반에서 인공지능(AI) 그래픽처리장치(GPU)에 대한 견조한 수요가 지속된 가운데 TSMC와 같은 순수 파운드리 업체들이 성장을 견인했다고 분석했다. 올해...
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삼성 파운드리 8나노 '수주 행진'…엔비디아 이어 인텔 접수 2025-12-16 17:28:39
주요 소재 업체에 발주한 포토마스크 규모도 지난해 2000억원에서 올해 3000억원 이상으로 늘어날 것으로 예상된다. 포토마스크는 반도체 회로를 빛으로 그리는 노광 공정을 할 때 빛이 회로 모양을 머금고 웨이퍼에 도달할 수 있도록 돕는 필수 소재다. 반도체업계 관계자는 “삼성의 8㎚ 파운드리 활황에 따라 국내...
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[마켓PRO] Today's Pick : "상법개정안 수혜주 SK…반도체 이익 5배 늘어날 삼성전자" 2025-12-11 09:00:22
온 필름(CoF), 포토마스크 등 디스플레이 관련 제품 수요가 안정적으로 유지, 주파용 시스템인패키지(RF-SiP), 플립칩 칩스케일패키지(FC-CSP) 등 패키지 기판 수요는 아이폰17 초기 물량 확대 영향 등으로 견조할 것. -기판소재의 영업이익 기여도는 2024년 9.6%에서 2025년 18.4%, 2026년 28.4%로 확대될 것, 미 고객사의...
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[주간 소부장] 2027년까지 소부장 테스트베드 미니팹 만든다…美 중국 제재 완화 2025-12-11 07:00:07
포토마스크 결함 검증 장비를 국산화하며 기술력을 입증해 왔습니다. 삼성전자 반도체연구소 출신 김병국 대표가 2018년에 창립한 이 회사는 고난도 EUV 장비 ‘SREM’과 차세대 모델 ‘FREM’을 개발해 국내외 고객사에 공급 중이지요. 이 시장은 일본 레이저텍과 독일 칼자이스가 장악하고 있습니다. 이솔은SREM을...
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그래핀스퀘어, 차세대반도체 극자외선(EUV) 공정 핵심부품 '펠리클'에 그래핀 적용 2025-12-09 09:00:26
펠리클은 포토 공정에서 장당 수억 원에 이르는 포토마스크를 오염원으로부터 보호하는 투명하고 얇은 덮개로 EUV 장비가 마스크의 회로 패턴을 웨이퍼에 프린팅할 때 수율을 높이기 위해 필수적이다. 하지만 90% 이상의 고투과도와 기계적, 열적, 화학적 안정성을 동시에 필요로 하는 극도의 난이도로 인해 아직 본격적인...
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"TSMC, 대만 2나노 공장 3곳 추가 건설 계획…AI칩 수요 대응" 2025-11-25 14:13:00
규모로 계획하고 있다고 밝혔다. 황런자오 TSMC 최고재무책임자(CFO)는 올해 자본 지출의 약 70%는 첨단 공정 기술에, 10∼20%는 특수 공정 기술에, 10%는 첨단 패키징 테스트, 포토마스크 및 기타 프로젝트 등에 사용할 예정이라고 말했다. jinbi100@yna.co.kr (끝) <저작권자(c) 연합뉴스, 무단 전재-재배포, AI...
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