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"中, 극자외선 노광장비 시제품 테스트중…2028년 칩 생산 목표" 2025-12-18 16:10:45
공장 1개 층 전체를 채울 정도로 큰 것으로 알려졌다. ASML의 첨단 제품은 180t에 스쿨버스 정도 크기다. 중국 시제품이 이보다 몇 배 크고 완성도도 떨어지지만, 테스트할 정도는 된다는 것이다. 이번 EUV 개발 사업은 제2차 세계대전 당시 미국의 원자폭탄 개발에 빗대 '중국판 맨해튼 프로젝트'로 불린다는 게...
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랑세스, '랑세스 솔루션스 데이 서울' 성료 2025-12-11 15:45:55
및 광학 부품의 미세 에칭을 고도화하는 데 적용된다. 원자층증착(ALD) 및 유기금속화학증착(MOCVD) 공정에 사용되는 트리메틸알루미늄, 반도체 식각 및 도핑공정에 쓰이는 불산과 삼염화포스포릴(POCl3)도 반도체 산업을 위한 솔루션이다. 고성능 윤활유 솔루션 ‘로이코(Royco®)’는 한국 방위산업을 겨냥한 솔루션이다....
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그래핀스퀘어, 차세대반도체 극자외선(EUV) 공정 핵심부품 '펠리클'에 그래핀 적용 2025-12-09 09:00:26
왔다. 공동연구팀은 그래핀을 원자층 단위로 10장까지 웨이퍼 위에 전사하는 독점적인 기술을 바탕으로 최대 94.4%의 투과도 및 기존소재(SiN) 대비 8배의 파괴하중 등 그래핀 펠리클의 성능을 증명하고 상용화에 필요한 스케일업 가능성까지 확인했다. 연구팀은 2026년 안에 96% 이상의 투과도를 달성하고 고객사와 신뢰성...
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ASM, 화성에 1억 달러 투자해 '혁신제조센터' 설립 2025-12-08 16:31:24
제작 과정에서 웨이퍼에 원자만큼 얇은 박막을 쌓아가는 기술인 원자층 증착 (ALD) 및 에피택시(Epitaxy) 솔루션 분야 선도 기업이다. 차세대 2nm GAA(Gate-All-Around) 공정 등 첨단 반도체 제조에 필수적인 기술 개발을 주도하고 있다. 엠사드 ASM CEO는 "한국은 차세대 반도체 혁신을 선도하는 전략적 요충지이자 ASM의...
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황철주 "AI시대 반도체, 연산·메모리 경계 사라질 것" 2025-11-11 18:19:27
칩을 고층 아파트처럼 만들면 성능과 발열을 모두 해결할 수 있다. 이것이 미래 반도체 모습”이라고 했다. 그는 이런 고층 아파트처럼 만들려면 특별한 반도체 소재가 필요하다고 했다. 실리콘 기판 대신 유리, 플라스틱 등에 전자회로를 그릴 수 있어야 한다는 것이다. 황 회장은 주성엔지니어링이 세계 최초로 개발한...
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삼성 덕보는 원익IPS…"생산능력 3배 확보" [이제는 코스닥] 2025-11-04 14:29:55
기상 증착(CVD) 장비와 원자층 증착(ALD) 장비가 있습니다. CVD는 화학 반응을 이용해 웨이퍼 표면에 얇은 막을 균일하게 덮는 기술이고요. ALD는 웨이퍼 표면에 물질을 원자층 단위로 한 층씩 정밀하게 쌓아 올리는 공정입니다. 원익IPS만의 차별점도 있는데요. 국내 증착 업체 중 사실상 유일하게 삼성 파운드리의 최선단...
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양자역학, 거시 세계로 확장…노벨 물리학상 영예 2025-10-07 20:27:08
층을 벽처럼 끼운 '조셉슨 접합'을 활용한 회로로 양자 터널링이 거시적 세계에서도 확인됨을 증명했다. 정연욱 성균관대 교수는 "양자역학을 보통 작은 원자세계에서 보인다고 하는데, 칩이나 회로를 설계해 만들어도 양자역학이 잘 된다는 걸 처음으로 명명백백하게 보인 것"이라고 설명했다. 초전도체로 구성된...
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[르포] DGIST, 스탠퍼드 넘보는 '반도체 팹' 현장 2025-09-21 12:00:17
연결된 882㎡(267평) 규모의 분석실에서는 초고분해능 투과전자현미경(UHR FE-TEM)과 원자단층현미경(Atom probe tomography), 다기능 집속이온빔(Multi-Mode Focused Ion Beam) 등 50여 종의 분석 장비를 볼 수 있었다. 이들 장비를 통해 반도체 공정 후 공정 평가 및 불량 분석이 진행될 수 있도록 지원한다. DGIST 팹은...
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"유럽·일본 독점 깼다" 테스, 차세대 전력반도체 'SiC 에피 장비' 상용화 2025-09-11 13:00:01
반도체 층을 원자 단위로 정밀하게 성장시키는 ‘에피택시’ 공정은 수율을 좌우하는 핵심 기술로, 지금까지는 독일, 네덜란드, 일본 기업들이 장비 시장을 사실상 독점해왔다. 특히 고전압·고온 환경에서 사용되는 SIC 전력반도체에선 마이크로미터 두께의 에피층을 정밀하게 형성해야 해 온도 제어와 도핑 균일도 확보가...
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주가 60% 치솟자 "우리가 먼저 팔래"…개미 '뒤통수' 친 종목 [윤현주의 主食이 주식] 2025-07-26 07:00:10
반도체 제조공정인 화학기상증착(Chemical Vapor Deposition, CVD) 장비, 원자층 박막증착(Atomic Layer Deposition, ALD) 장비, 원자층식각(Atomic Layer Etch, ALE) 장비 등 다양한 플라즈마 공정 장비에 적용될 수 있는 것으로 알려졌다. 300㎜ 실리콘 식각장비 제품 중 공시서류작성기준일 현재 판매가능 제품은 ‘Leo...
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